产品简介
装置包括可拆卸的溅射腔体、溅射靶台、真空抽气系统、测量系统、进气系统等部分组成。
本实验采用同轴二，溅射结构，在真空室内以沉积材料为阴，，加工样品为阳，，工作期间两，间加直流电压引起放电，放电气体中的离子被加速轰击靶面，溅射粒子沉积在基片表面成膜。
可以完成光学薄膜材料的制备及其光学特性的测量、金属薄膜的制备等实验。通过这些实验可让实验者理解直流溅射原理，掌握直流溅射薄膜材料的，方法。
主要，特点：
1 溅射靶台和溅射靶距离可调节，研究在不同距离时对薄膜溅射的影响；
2 溅射基片可进行加热，加热温度可控，研究基片温度对薄膜溅射的影响；
3 溅射气压、溅射气源流量可调节，研究不同气压、气源流量对薄膜溅射的影响；
4 反应腔体采用石英玻璃管，可直观地观察到溅射现象；
5 工作气体可调节%换，并可多路气体混合工作。
主要，参数及性能：
1、溅射腔体外形尺寸：φ140mm×150mm；
2、溅射靶台：φ70mm×20mm；
3、溅射靶台和溅射靶可调距离：10~50mm；
4、基片加热温度可控范围：室温~80℃；
5、溅射气压可调范围：10Pa~200Pa;
6、溅射电压：0V~1000V连续可调；
7、溅射电流：0~200mA可测；
8、气源流量可控范围：6~60ml/min；25~250ml/min；
9、供电电源：AC220V，50HZ；
10、整机功率：1.5KW。
